发明名称 | 贮氢合金薄膜的制备方法 | ||
摘要 | 本发明涉及贮氢材料的制备。采用双源离子束溅射法制备贮氢合金薄膜,可用于镍-氢电池的负极,具有放电容量大、抗粉化能力强、循环寿命长等优点。 | ||
申请公布号 | CN1062770A | 申请公布日期 | 1992.07.15 |
申请号 | CN90106043.7 | 申请日期 | 1990.12.24 |
申请人 | 南开大学 | 发明人 | 张允什;王达;雷宗保;张大昕;袁华堂;胡伟康 |
分类号 | C23C14/46;C23C14/14;C01B3/00;H01M4/00 | 主分类号 | C23C14/46 |
代理机构 | 南开大学专利事务所 | 代理人 | 赵尊生 |
主权项 | 1、一种采用双源离子束溅射制备贮氢合金薄膜的方法,其特征在于它包括以下步骤: (1)选择一组下列金属 Ti、Ni, Ti、Ni及掺杂元素, 或其它贮氢材料组分的金属,如La及混合稀土,Fe、Mn、Mg、Co等,作为贮氢合金薄膜的组分放在可旋转的四Ⅰ位靶上; (2)选择一种下列材料 Ti、Ni、Al及其它金属(如Pt、Pd、Cu、Mg等)、硅片、玻璃、聚酯材料、不锈钢或各类块状贮氢材料,作为贮氢合金薄膜的基片放在基片架上; (3)在真空条件下,用溅射源离子束交替溅射各金属靶,并通过所说的可旋转的四Ⅰ位靶控制各靶材金属的溅射时间以得到适宜组分的合金沉积层,同时用高能轰击源离子束辐射所说基片上的沉积层,使其合金化即可制备出贮氢合金薄膜。 | ||
地址 | 300071天津市卫津路94号 |