用离子束反应溅射方法成膜的装置

摘要

用离子束反应溅射成膜的装置，主要用于制作多成份膜和多成份多层膜。本发明在装置的靶室中设有2～4个溅射离子源，果用聚集离子源，以基片为中心分布于基片周围。每个离子源前方相应有一组装置有4块不同材料的靶片的转动靶。对着基片设有一个用于辐照基片的无灯丝阳极辐照离子源，如用高频离子源，2～4个溅射离子源与每组有4种材料的靶配合，能作出每个周期厚度内有4层，每层成份完全不重复的结构可调多层膜。辐照离子源能长期工作于反应气体中。

主权项

1.用离子束反应溅射成膜的装置，包括有靶室(1)，与靶室相连接的真空系统(2)、供气系统(4)、(5)和冷阱(3)，靶室中装有转动工作台(8)，工作台与基片(10)之间有加温板(9)，基片前方设有档板(11)，其特征是在靶室内设有2～4个溅射离子源(12)，以基片为中心分布于基片周围，每个溅射离子源沿束液射出的前方相应有一组转动靶(13)；对着基片设有一个无灯丝阳极的辐射离子源(6)。