| 发明名称 |
AMORPHOUS SILICON THIN FILM SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR920005512(B1) |
申请公布日期 |
1992.07.06 |
| 申请号 |
KR19890001976 |
申请日期 |
1989.02.20 |
| 申请人 |
SEIKOSHA CO., LTD. |
发明人 |
DANAKA, SAKAE;WATANABE, YOSHIAKI |
| 分类号 |
H01L23/52;G02F1/136;G02F1/1368;H01L21/31;H01L21/3205;H01L21/336;H01L21/77;H01L21/84;H01L27/12;H01L29/78;H01L29/786;(IPC1-7):H01L29/78 |
主分类号 |
H01L23/52 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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