| 发明名称 |
Process for the chemical vapor deposition of copper |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IE914565(A1) |
申请公布日期 |
1992.07.01 |
| 申请号 |
IE19910004565 |
申请日期 |
1991.12.30 |
| 申请人 |
AIR PRODUCTS AND CHEMICALS |
发明人 |
JOHN ANTHONY THOMAS NORMAN;PAUL NIGEL DYER |
| 分类号 |
C07F1/08;C07C13/263;C07C45/00;C07C49/92;C07F1/00;C23C16/06;C23C16/18;C23F1/12;H01L21/285;H01L21/3213;H01L21/768;(IPC1-7):C23C16/18 |
主分类号 |
C07F1/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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