| 发明名称 |
FOCUSED ION BEAM ETCHING APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0477992(A3) |
申请公布日期 |
1992.07.01 |
| 申请号 |
EP19910116748 |
申请日期 |
1991.09.30 |
| 申请人 |
SHIMADZU CORPORATION |
发明人 |
YAMAKAGE, YASUHIRO, DAI 10 RAKUSAI ABANHIRU |
| 分类号 |
H05H5/00;H01J37/305;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/305;H01J37/08 |
主分类号 |
H05H5/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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