发明名称 RETICLE FOR PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERNING
摘要
申请公布号 US5126220(A) 申请公布日期 1992.06.30
申请号 US19910648697 申请日期 1991.01.31
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 TOKITOMO, KAZUO;BAN, YASUTAKA;SUGISHIMA, KENJI
分类号 G03F1/08;G03F1/00;H01L21/027 主分类号 G03F1/08
代理机构 代理人
主权项
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