| 摘要 |
Dans le procédé pour l'exploitation d'un dispositif produisant des évidements sur un cylindre au moyen d'un faisceau d'électrons, le faisceau d'électrons est soumis à une focalisation destinée à modifier sa concentration. Une zone au moins d'une enveloppe entourant au moins des zones du parcours du faisceau d'électrons est chauffée par le faisceau d'électrons pendant au moins une période de nettoiement. Le dispositif pour la réalisation d'une structure de surface d'un cylindre destiné à l'exposition d'un matériau présente un système de faisceau. Dans le système de faisceau d'électrons sont disposés une source de faisceau produisant le faisceau d'électrons, un système de réglage de la distance focale et un système de focalisation. Au niveau d'une paroi séparant le système de faisceau de la chambre à vide recevant le cylindre est disposée une buse qui permet le passage du faisceau d'électrons. La buse présente un diamètre intérieur qui permet d'exposer au moins une partie de l'enveloppe de la buse au faisceau d'électrons défocalisé. |
