METHOD OF FORMING A PHOTORESIST PATTERN,申请号EP19860105373-传众专利搜索

发明名称	METHOD OF FORMING A PHOTORESIST PATTERN
摘要
申请公布号	EP0199303(B1)	申请公布日期	1992.06.24
申请号	EP19860105373	申请日期	1986.04.18
申请人	OKI ELECTRIC INDUSTRY COMPANY, LIMITED;FUJI CHEMICALS INDUSTRIAL CO., LTD.	发明人	YAMASHITA, YOSHIO OKI ELECTRIC IND. CO., LTD;KAWAZU, RYUJI OKI ELECTRIC IND. CO., LTD;ITOH, TOSHIO OKI ELECTRIC IND. CO., LTD.;ASANO, TAKATERU FUJI CHEMICALS IND. CO., LTD.;KOBAYASHI, KENJI FUJI CHEMICALS IND. CO., LTD.
分类号	G03F7/022;G03F7/20;G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/023;G03F7/26	主分类号	G03F7/022
代理机构		代理人
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