| 摘要 |
一种电子摄影术用聚酯系源于(a) 至少有一种成份是选自三元或四元酸性成份和三元或四元醇类；(b) 至少有一种成份是选自二元羧酸类和其低级烷基酯类；和(c) 至少有一种成份是选自芳二醇类和脂环二醇类其中成份 (a) 对全体酸性成份的比例 X（莫耳％）和成份(c)对全体酸性成份的比例 Y（莫耳％）应满足下列式(1)和(2)：Y＜(133m+51.5n)logX +(60m+25.43n) (1)Y＞(253m+170n)logX -(176m+162n) (2)其中0≦Y≦100，0.5≦X≦50，m是成份 (a) 中四元酸或醇所占的比例（莫耳％），n是成份 (a) 中三元酸或醇所占的比例（莫耳％），且 m+n=1 。此聚酯具有一良好的偏位（ off-setting ）阻抗力和优良的研磨特性。 |
