| 发明名称 |
HIGH VACUUM MAGNETRON SPUTTER SOURCE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP0482891(A3) |
申请公布日期 |
1992.06.17 |
| 申请号 |
EP19910309760 |
申请日期 |
1991.10.22 |
| 申请人 |
VARIAN ASSOCIATES, INC. |
发明人 |
DEMARAY, RICHARD E.;HOFFMAN, VANCE E. |
| 分类号 |
C23C14/35;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/34 |
主分类号 |
C23C14/35 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
