| 摘要 |
<P>L'invention concerne un procédé de microstructuration de céramiques oxydées supraconductrices (1). <BR/> - On dispose une couche métallique fermée (3) sur la céramique oxydée (1), <BR/> - on dispose un masque de vernis photosensible (4) sur la couche métallique (3), <BR/> - on élimine des zones de la couche métallique (3) non recouvertes par le masque de vernis photosensible (4), <BR/> - on élimine le masque de vernis photosensible (4), <BR/> - on applique ledit rayonnement sur la céramique d'oxyde masquée (1), à travers les zones de la couche métallique (3) initialement recouvertes par le masque de vernis photosensible, <BR/> - on élimine des zones de la couche métallique (3) initialement recouvertes par le masque de vernis photosensible (4).</P> |
