| 摘要 |
<p>Beim Verfahren zur Ausrichtung eines Elektronenstrahles relativ zzu einem eine Nutzgravur aufweisenden Bezugsobjekt, das als eine im wesentlichen zylindrisch gestaltete Walze ausgebildet ist, wird die Walze zunächst in Umfangsrichtung durch eine Elektronenstrahlbeaufschlagung mit einer eine Referenzmarkierung ausbildenden Reihe von Ausnehmungen versehen. Anschließend wird relativ zur Referenzmarkierung exakt positioniert mindestens ein Teil der Nutzgravur erzeugt. Nach einer Unterbrechung der Elektronenstrahlbeaufschlagung wird die Referenzmarkierung während eines Meßbetriebes vom Elektronenstrahl durch Abtastung in Längsrichtung der Walze detektiert und anschließend durch Abtastung der Umfangsrichtung der Walze ein Referenzpunkt aufgefunden. Die die Referenzmarkierung ausbildenden Ausnehmungen werden in einem sich lediglich über einen Teil des Umfanges der Walze erstreckenden Umfangsbereiches angeordnet. Nach Auffinden der Positionierung der Referenzmarkierung in Längsrichtung der Walze wird während mehrerer Meßzyklen jeweils innerhalb eines Meßfensters vorgebbarer Dauer eine Positionsanalyse durch die relative Auswertung von aufeinanderfolgenden Meßzyklen zugeordneten Meßsignalamplituden durchgeführt.</p> |
