PLASMA ETCHING INDIUM TIN OXIDE USING A DEPOSITED OXIDE MASK.

摘要

L'utilisation d'un masque d'oxyde déposé permet de recourir à une puissance plus élevée lorsque l'oxyde stannique d'indium est corrodé par un plasma contenant CH3. et AR+, ce qui augmente le pouvoir corrosif de l'oxyde stannique d'indium.