| 发明名称 |
METHOD OF PRODUCING A SEMICONDUCTOR LASER BY IMPLANTING IMPURITIES WHICH SUPPRESS DISORDERING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US5116769(A) |
申请公布日期 |
1992.05.26 |
| 申请号 |
US19910673319 |
申请日期 |
1991.03.22 |
| 申请人 |
MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
SEIWA, YOSHITO |
| 分类号 |
H01S5/00;H01S5/183;H01S5/34 |
主分类号 |
H01S5/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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