钴铁镍铌硅硼非晶薄膜

摘要

一种钴铁镍铌硅硼非晶薄膜的制备处理方法，属于高导磁非晶薄膜制备领域。该薄膜除材料成分有别于其他非晶薄膜外，其制备态非晶薄膜又经综合退火热处理工艺，故该薄膜具有很高的饱和磁化强度(可达9000高斯)和高导磁率(10MHz达4300)，且高频特性好，耐腐蚀性好。

主权项

1、钴铁镍铌硅硼非晶薄膜属高导磁非晶薄膜制备处理领域，其特征为该薄膜材料由钴铁镍铌硅硼组成，经真空镀膜工艺将其镀在一基片衬底上形成制备态非晶薄膜，制备态非晶薄膜被固定在退火管内，待管内抽真空度达10-3Torr数量级后再向管内充氩气，随后使退火管自然升温至420℃保持10分钟，再自然降温至310℃，然后加1600奥斯特的磁场退火10分钟，最后使退火管在磁场中旋转退火10分钟，通水和吹风使其快速冷却至室温状态。