FILM THICKNESS UNIFORMITY CONTROL APPARATUS FOR IN-LINE SPUTTERING SYSTEMS

摘要

Un agencement de masquage (30) est disposé entre la cathode (28) et le substrat dans un système d'enduction par pulvérisation en ligne. On peut faire varier la forme relative du masque (44) depuis l'extérieur du système. Ainsi, l'uniformité de l'épaisseur du film peut être modifiée et modulée sans qu'il soit nécessaire d'interrompre le processus de pulvérisation.