| 发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING A PATTERNED MULTI-LAYER STRUCTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0030116(B2) |
申请公布日期 |
1992.04.22 |
| 申请号 |
EP19800304232 |
申请日期 |
1980.11.26 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
SUGISHIMA, KENJI;TAKADA, TADAKAZU |
| 分类号 |
H01L21/306;H01L21/033;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/3213;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/90;H01L21/31;H01L21/00 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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