| 摘要 |
<p>Die Oberflächenstruktur wird auf einer zur Beaufschlagung eines Materials vorgesehenen Walze (2) generiert. Die Walze (2) weist durch einen Elektronenstrahl (3) erzeugte Ausnehmungen (22) auf, die aus Vertiefungen und die Vertiefungen umgebenden Kraterwällen (62) ausgebildet sind. Es sind eine Vielzahl von Ausnehmungen vorgesehen, deren Durchmesser und Tiefen in einer vorgebbaren Variationsbreite variieren. Es variieren hierbei sowohl die Abstände der Ausnehmungen (22) in Umfangsrichtung der Walze (2) als auch die Abstände der Ausnehmungen (22) in Längsrichtung der Walze (2). Es sind sowohl einander überlappende als auch aneinandergrenzende sowie abstandsbehaftete Ausnehmungen vorgesehen. Bei dem Verfahren zur Erzeugung der Oberflächenstruktur werden durch einen Elektronenstrahl Ausnehmungen auf der Oberfläche der Walze erzeugt und der Elektronenstrahl bezüglich seiner Positionierung relativ zur Oberfläche mindestens in einer räumlichen Dimension in Abhängigkeit von mindestens einem über einen Zufallsgenerator festgelegten Parameter gesteuert.</p> |
