VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR VERMINDERUNG DER WAFER-AUFLADUNG BEI DER IONENIMPLANTATION.,申请号AT19880304230T-传众专利搜索

发明名称	VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR VERMINDERUNG DER WAFER-AUFLADUNG BEI DER IONENIMPLANTATION.
摘要
申请公布号	AT74227(T)	申请公布日期	1992.04.15
申请号	AT19880304230T	申请日期	1988.05.10
申请人	APPLIED MATERIALS, INC.	发明人	RENAU, ANTHONY;MOFFATT, STEPHEN;PLUMB, FREDERICK
分类号	H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/317	主分类号	H01J37/317
代理机构		代理人
主权项
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