| 发明名称 |
SILICON DIOXIDE DEPOSITION METHOD AND APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0478174(A3) |
申请公布日期 |
1992.04.15 |
| 申请号 |
EP19910308268 |
申请日期 |
1991.09.11 |
| 申请人 |
AMERICAN TELEPHONE AND TELEGRAPH COMPANY |
发明人 |
OLMER, LEONARD J. |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C16/02;C23C16/40;C23C16/509;C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/316;C23C16/50;H01L21/90 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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