发明名称 METHOD FOR CORRECTING PROXIMITY EFFECTS IN ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
摘要
申请公布号 EP0475033(A3) 申请公布日期 1992.04.01
申请号 EP19910112382 申请日期 1991.07.24
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 ASHTON, CHRISTOPHER JAMES;GERBER, PORTER DEAN;KERN, DIETER PAUL;MOLZEN JR., WALTER WILLIAM;RISHTON, STEPHEN ANTHONY;ROSENFIELD, MICHAEL GERALD;VISWANATHAN, RAMAN GOBICHETTIPALAYAM
分类号 H01L21/30;H01J37/302;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/317;G03F7/20 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项
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