| 发明名称 |
CONTROL METHOD OF HEAT TREATMENT PROCESS OF POLYCRYSTALLINE SILICON FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0492442(A) |
申请公布日期 |
1992.03.25 |
| 申请号 |
JP19900208068 |
申请日期 |
1990.08.08 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KANBARA SHIRO;ITO SATOSHI |
| 分类号 |
H01L21/20;H01L21/00;H01L21/66 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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