发明名称 紫外防伪原子印章制造工艺及设备
摘要 紫外防伪原子印章制造工艺涉及一种制造紫外防伪原子印章的工艺方法,包括照排、照象、凸版制作、凹版制作、橡胶压制、渗油和装配等工序,其中渗油工序是在真空干燥条件下将紫外防伪原子印油渗入橡胶凸版中。采用本工艺制造的原子印章除具有一般原子印章印次高,使用方便等优点外,在适当波长紫外光照射下,其印迹可发出鲜艳的特征荧光,便于鉴别印迹真伪,因而具有防止伪造的功能。本发明特别适用于制造紫外防伪原子印章。
申请公布号 CN1059494A 申请公布日期 1992.03.18
申请号 CN91105851.6 申请日期 1991.08.24
申请人 天津市首饰厂;南开技术开发咨询公司 发明人 李明智;赵景员;王义民;李万庆;季茂海
分类号 B41K1/00;G09F3/02 主分类号 B41K1/00
代理机构 天津市专利事务所专利代理服务部 代理人 潘冠雄
主权项 1、一种紫外防伪原子印章制造工艺,包括照排、照像、凸版制作、凹版制作、橡胶压制、渗油和装配等工序,即首先将印章原稿照排成样稿并经照像工序、凸版制作工序和凹版制作工序依次制成底片、凸版和凹版,然后采用橡胶压制成橡胶凸版并向橡胶凸版中渗入紫外防伪原子印油,最后将已渗入紫外防伪原子印油的橡胶凸版装配到印壳上即制成紫外防伪原子印章;本发明的特征在于所述渗油工序是将紫外防伪原子印油灌入真空干燥罐中并将待渗橡胶凸版浸入紫外防伪原子印油中,将真空干燥罐升温至80±5℃并保温,在保温的同时将罐内抽真空至1mmHg柱以下并保持至少10分钟后破空。
地址 300160天津市河东区红星路118号