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发明名称 ION BEAM SPUTTERING METHOD AND SYSTEM
摘要
申请公布号 JPH0480361(A) 申请公布日期 1992.03.13
申请号 JP19900190839 申请日期 1990.07.20
申请人 HITACHI LTD 发明人 FUJIWARA AKIO;ISADA NAOYA;ISHIKAWA YASUSHI
分类号 C23C14/46;H01L21/203 主分类号 C23C14/46
代理机构 代理人
主权项
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