| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR APPLYING A LAYER OF A FLUID MATERIAL ON A SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US5094884(A) |
申请公布日期 |
1992.03.10 |
| 申请号 |
US19900513545 |
申请日期 |
1990.04.24 |
| 申请人 |
MACHINE TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
HILLMAN, GARY;MOHONDRO, ROBERT D. |
| 分类号 |
B05D1/40;B05C11/08;G03F7/16;H01L21/027 |
主分类号 |
B05D1/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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