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Olefinisch ungesättigte Oniumsalze der Formeln I und II <IMAGE> <IMAGE> worin R1 ein Wasserstoffatom oder Methyl und A eine direkte Bindung, Phenylen oder einen der folgenden Reste <IMAGE> bedeuten, wobei n und o unabhängig voneinander je für eine Zahl von 1 bis 10 stehen, Y1 für J oder S-R2 und Y2 für S-R2 stehen, wobei R2 ein C1-C4-Alkyl, unsubstituiertes oder C1-C4-alkylsubstituiertes Phenyl bedeutet, m für Null oder eine Zahl von 1 bis 10 und X für BF4, PF6, AsF6, SbF6, SbCl6, FeCl4, SnF6, BiF6, CF3SO3 oder SbF5OH stehen, lassen sich mit einem olefinisch ungesättigten, eine säurelabile Gruppe enthaltenden Comonomer copolymerisieren und ergeben strahlungsempfindliche Copolymere, die direkt als Photoresists eingesetzt werden können.
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