ETCHANT SOLUTION FOR PHOTORESIST-PATTERNED METAL LAYERS.

摘要

Une solution de gravure se caractérise par le fait de comprendre de l'eau et: (a) entre 65 % et 75 % en poids environ d'acide phosphorique; (b) entre 1 % et 5 % en poids environ d'acide nitrique; (c) entre 0 % et 15 % en poids environ d'acide acétique; et (d) entre 0.005 % et 5 % en poids environ d'un agent tensio-actif en oxyde d'amine ayant la formule (I), dans laquelle R1 et R2 sont sélectionnés indépendamment l'un de l'autre dans le groupe formé du groupe alkyle inférieur ayant entre 1 et 4 atomes de carbone et des groupes alkoxy inférieurs ayant entre 1 et 4 atomes de carbone, et R3 est un groupe alkyle supérieur ayant entre 8 et 18 atomes de carbone ou un mélange de ceux-ci.