发明名称 | 真空压力造型装置 | ||
摘要 | 在真空压力造型装置中使用顶出缸来最初突破上、下模之间的密封以便有助于迅速打开上、下模,从而缩短零件造型周期。 | ||
申请公布号 | CN1015527B | 申请公布日期 | 1992.02.19 |
申请号 | CN89102529.4 | 申请日期 | 1989.04.21 |
申请人 | 布德公司 | 发明人 | 丹尼尔·皮特克·斯乐凯;杰姆斯·理查德·哈默纳 |
分类号 | B29C43/04 | 主分类号 | B29C43/04 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 张祖昌 |
主权项 | 1.一种真空造型装置,具有两个,即第一和第二模,所述第一和第二模中至少一个可以借助压头相对于另一个移动,一个密封环绕所述第一模设置并包括第一和第二密封件,所述密封环当压头使两模靠拢时能在两模间形成真空,其特征在于该装置还包括:围绕所述第二模设置的分模装置,该分模装置与所述密封环和所述压头是分开的;以及所述分模装置的驱动装置,当一零件在所述第一和第二模之间完成造型后,该驱动装置驱动所述分模装置,使所述密封环被推离所述第二模,从而使所述第二密封件突破所述第一和第二模之间的真空密封,而两模仍保持基本闭合。 | ||
地址 | 美国密执安州48084 |