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发明名称 METHOD OF PROJECTION EXPOSURE AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPH0444309(A) 申请公布日期 1992.02.14
申请号 JP19900153357 申请日期 1990.06.12
申请人 SEIKO EPSON CORP 发明人 SUGIMOTO NAOAKI
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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