发明名称 包含分散于双折射聚合基质中之液晶微滴之光调变材料
摘要 本文揭示无雾光调变聚合物分散液晶(PDLC)材料,此材料含双折射之聚合基质并具有似于分散液晶微滴之各向异性光学性质,致透明状态之PDLC呈现所有入射光方向都一致之折射率而提供所有视角都光学清晰、无散射之薄膜。可用此原料制造电光光闸,此光闸在停顿状态时为透明而在开动状态时为不透明或反之亦然,视光闸装置之微滴结构与型而定。
申请公布号 TW178680 申请公布日期 1992.02.11
申请号 TW078102365 申请日期 1989.03.31
申请人 肯特州立大学 发明人 约瑟.伍.多尼;约翰.勒.威斯特
分类号 C09K19/04;G02F1/13 主分类号 C09K19/04
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种光调变液晶材料,包含一液晶相散布于透光 液晶侧 基环氧聚合物相,特征在于该聚合物相为双折射者 ,对所 有方向之入射光,液晶相与该聚合物相之有效折射 率一致 ,致该材料在某一场一开启状态或场一关闭状态时 透明且 无雾,及对所有方向之入射光,有效折射率不一致, 致使 该材料在另一场一开启状态或场一关闭状态时不 透明。2.根据申请专利范围第1项之材料,额外特征 为液晶相之 普通及特别折射率分别与聚合物之普通及特别折 射率一致 ,当液晶相与聚合物之光学轴对齐时该材料透明且 无雾, 而液晶相与聚合物之光学轴不对齐时该材料不透 明。3.根据申请专利范围第1项之材料,额外时徵为 液晶侧基 含氰基联苯侧基。4.根据申请专利范围第1项之材 料,额外特征为液晶相具 有随频率而定之介电向异性。5.一种光调变液晶 材料,包含一有聚合物相散布其中之液 晶相,其特征在于聚合物相之液晶原部分(mesogenic mioeties)与光学轴对材料表面成对齐,且液相与该液 晶 原部分之普通及特别折射率一致,因之,当液晶相 与液晶 原部份之光学轴对齐时,该材料于任何视角皆呈透 明且无 雾,而当液晶相与液晶原部份不对齐时,该材料不 透明。6.根据申请专利范围第5项之材料,额外特征 为聚合物相 实质上由液晶侧基聚合物构成。7.根据申请专利 范围第6项之材料,额外特征为液晶侧基 聚合物包含具有不安定部分(labile moiety)之液晶侧 基 ,该部分可与其它和其相等之部分交联。8.根据申 请专利范围第7项之材料,额外特征为该部分系 交联成与液晶侧基永久对齐。9.一种无故障光调 变液晶材料,包含具负介电和向异性之 液晶相分散于透光聚合物相,其特征在于聚合物相 包含液 晶侧基聚合物,液晶相之普通及特别折射率分别与 聚合物 相之普通及特别折射率一致,液晶侧基具正介电向 异性, 而液晶相与聚合物相之光学轴与材料之视表面成 垂直,由 是物质在施加场不存在时透明而在施加场存在时 不透明。10.一种无故障光调变液晶材料,包含含有 相枌散液晶微 滴之透光、合成树脂基质,特征在于该基质包含液 晶聚合 物;微滴及基质之普通及特别折射率分别一致,于 场-关 闭状态微滴及基质之光学轴于与入射光之视角倾 斜之方向 平行对齐,及微滴对施加场感应而使微滴与材料之 光学轴 不对齐,因此在开启状态时材料不透明。11.一种制 造具有所有方向入射光展现无雾透明度特性之 光调变液晶材料之方法,此方法包含形成分散于透 光聚合 物相之液晶相之步骤,其特征在于液晶相与聚合物 相具有 致之普通及特别折射率及藉使聚合物相之光学轴 与该材料 表面对齐之额外步骤,因此使液晶相之光学轴与聚 合物相 之光学轴平行对齐可得无雾透明度,及材料因液晶 相及聚 合物相之有效折射率不一致而成为不透明。12.根 据申请专利范围第11项之方法,额外特征为聚合物 相之光学轴之对齐步骤系藉施加电或磁场于材料 来进行。13.根据申请专利范围第12项之方法,额外 特征为藉固定 聚合物相光学轴对齐之步骤,俾除去电或磁场时, 对齐继 续保持。14.根据申请专利范围第13项之方法,额外 特征为固定之 步骤系藉交联聚合相施行。15.一种光调变液晶材 料,包括含于固体内之分离量( discretc quantities)之液晶,特征在于该固体系双折射 者而该分离量之液晶之普通及特别折射率分别与 固体之普 通及特别折射率一致,因之当液晶与聚合物相之光 学轴对 齐时该材料为透光者。16.根据申请专利范围第1项 之材料,额外特征为聚合物包 含一聚合物基质且液晶相包含分散于聚合物基质 之液晶微 滴。17.一种自液晶溶液及生成合成液晶原树脂基 质之物质生 成光调变液晶材料之方法,用以形成液晶及聚合物 之液晶 及生成合成液晶原树脂基质之物质具有一致之普 通及特别 折射率,该方法之特征为以下步骤:使液晶之光学 轴与生 成合成液晶原树脂基质之物质之光学轴对齐;固化 该生成 合成液晶原树脂基质之物质俾光学轴之校准在无 电场或磁 场存在时持续。18.根据申请专利范围第17项之方 法,额外特征为对齐步 骤包括施加一电场或磁场通过各成份。19.根据申 请专利范围第17项之方法,额外特征为固化步
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