| 发明名称 |
FINISHING WORK METHOD OF OUTER PERIPHERAL PART OF SILICON SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11233463(A) |
申请公布日期 |
1999.08.27 |
| 申请号 |
JP19980029992 |
申请日期 |
1998.02.12 |
| 申请人 |
NAOETSU ELECTRONICS CO LTD |
发明人 |
SATO TSUTOMU |
| 分类号 |
B24B1/00;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
B24B1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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