| 发明名称 |
WAFER WASHING LIQUID AND WASHING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER USING SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0433338(A) |
申请公布日期 |
1992.02.04 |
| 申请号 |
JP19900138183 |
申请日期 |
1990.05.30 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
FUNAHASHI TOMOMASA;KOJIMA MASAYUKI;KOIKE ATSUYOSHI |
| 分类号 |
H01L21/3213;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;H01L21/3205 |
主分类号 |
H01L21/3213 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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