发明名称 Process for investigating single crystal material for precipitations of foreign phases.
摘要 <p>Bei der Herstellung und Bearbeitung von einkristallinem Material ist es wichtig, Abweichungen von der idealen Kristallstruktur erfassen zu können. Benötigt werden Angaben zur Dichte und mittleren Ausdehnung von Fremdphasen-Ausscheidungen. Die Durchstrahlung diskreter Kristallbereiche mit Wellen- oder Teilchenstrahlen, Erfassung der Intensitätsverteilung der unter Bragg-Bedingungen gebeugten Strahlen und Bestimmung statischer Debye-Waller-Faktoren soll universell, bei unterschiedlichen Probendicken, mit hoher Auflösung und Flexibilität bezüglich Wellenlängen-Änderungen automatisiert erfolgen. Hierzu werden eine Variation des Einfallswinkels der Strahlen zu den beugenden Netzebenen und die Messung des Reflexionsvermögens mittels eines Photonen- bzw. Teilchen-Detektors ausgeführt und das integrale Reflexionsvermögen Rint bestimmt. Schwenken der Probe um eine Achse, die senkrecht auf beugenden Netzebenen steht, führt zu einer Variation der Probendicke. Rint wird in Abhängigkeit von der Probendicke erfaßt. Aus der gemessenen Abhängigkeit, an eine theoretische Funktion angepaßt, ergibt sich der statische Debye-Waller- Faktor und bei Messung mehrerer Beugungsordnungen die Dichte bzw. Zahl sowie die mittlere Ausdehnung der Ausscheidungen. Wichtige Anwendungen liegen in der in-situ Bestimmung von Fremdphasen-Ausscheidungen, in Untersuchungen von Si-Wafern, die ortsabhängig nach Dichte und Größe von SiO2-Ausscheidungen karthographiert werden können, und dergleichen. &lt;IMAGE&gt;</p>
申请公布号 EP0468609(A2) 申请公布日期 1992.01.29
申请号 EP19910250204 申请日期 1991.07.23
申请人 DEUTSCHES ELEKTRONEN-SYNCHROTRON DESY;HAHN-MEITNER-INSTITUT BERLIN GESELLSCHAFT MIT BESCHRAENKTER HAFTUNG 发明人 SCHNEIDER, JOCHEN;GRAF, HANS ANTON
分类号 G01N23/207 主分类号 G01N23/207
代理机构 代理人
主权项
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