| 主权项 |
1.一种周边曝光装置,具有复数个含有光源及集光 光学系统的照明单元,其感光基板上有曝光图样的 图样区和不曝光图样的非图样区,该感光基板的非 图样区以上述照明单元所射出的光来曝光, 其特征在于包括: 支持单元:其可在移动中支持复数个照明单元; 第一驱动部,其可驱使感光基板和支持单元沿第一 方向相对移动; 第二驱动部,其可定位各个照明单元在约略中央的 部位并驱使各个照明单元沿不同于第一方向的第 二方向移动;及 驱动控制部,其控制第二驱动部,使复数个照明单 元不致互相干涉。2.如申请专利范围第1项之周边 曝光装置,其中,驱动控制部将复数个相邻照明单 元之间的距离控制在既定的距离范围以上。3.如 申请专利范围第1项之周边曝光装置,其中,驱动控 制部可在使用复数个照明单元中其中一部份照明 单元所射出的光来曝光感光基板的非图样区时,使 其余的照明单元不会和上述的照明单元产生干涉 的情况。4.一种周边曝光装置,具有复数个含有光 源及集光光学系统的照明单元,其感光基板上有曝 光图样的图样区和不曝光图样的非图样区,该感光 基板的非图样区以上述照明单元所射出的光来曝 光, 其特征在于包括: 光量检测装置,其可检测发射自上述各个照明单元 的光强度;及 移动速度测定装置,其在上述各个照明单元和感光 基板相对移动以曝光感光基板上之非图样区时,根 据上述光量检测装置所检测之照明单元中最低的 光强度来设定各个照明单元和感光基板的相对移 动速度。5.一种周边曝光装置,具有复数个含有光 源及集光光学系统的照明单元,其感光基板上有曝 光图样的图样区和不曝光图样的非图样区,该感光 基板的非图样区以上述照明单元所射出的光来曝 光, 其特征在于包括: 光束大小变更装置,其可各自独立变更上述复数个 照明装置所射出的光束大小。6.如申请专利范围 第1.2.3.4或5项之周边曝光装置,其中,进一步具有旋 转驱动部,其可绕着和感光基板之感光面约略垂直 相交的旋转轴旋转感光基板,而且,复数个照明单 元之间的距离随着感光基板上非图样区的排列而 进行的改变可和上述旋转驱动部旋转驱动感光基 板同时进行。7.如申请专利范围第5项之周边曝光 装置,其中,进一步具有旋转驱动部,其可绕着和感 光基板之感光面垂直相交的旋转轴旋转感光基板, 而且,各自独立变更上述复数个照明装置所射出之 光束大小的动作可和上述旋转驱动部旋转驱动感 光基板同时进行。8.一种周边曝光装置,具有复数 个含有光源及集光光学系统的照明单元,其感光基 板上有曝光图样的图样区和不曝光图样的非图样 区,该感光基板的非图样区以上述照明单元之光射 出部所射出的光来曝光, 其特征在于包括: 遮光装置,设置于复数个照明单元和感光基板间相 对移动的路径附近,其用来防止光射出部所射出的 光照射在感光基板上不想被照射到的部位。9.如 申请专利范围第8项之周边曝光装置,其中,上述遮 光装置被设置成可和感光基板相对移动,并可针对 需要来设定照明单元和感光基板之间的相对位置 。图式简单说明: 图1为平面图,说明本发明实施型态之周边曝光装 置的概略结构。 图2为剖面图,说明本发明实施型态之周边曝光装 置的概略结构。 图3为纵剖面图,概略表示发光单元的构造范例。 图4说明本实施型态中在周边曝光装置和其他装置 之间装载器承接曝光对象物的状况。 图5说明曝光对象物经由装载器被放置在周边曝光 装置上的样子。 图6为方块图,概略表示本发明实施型态之周边曝 光装置的控制电路。 图7(a)为「目」字形图样中的两个图样具有较宽间 隔的曝光型态。 图7(b)为在进行图7(a)所示图样的周边曝光时控制 部所进行的曝光控制步骤。 图7(c)为「目」字形图样中的两个图样具有较窄间 隔的曝光型态。 图7(d)为在进行图7(c)所示图样的周边曝光时控制 部所进行的曝光控制步骤。 图7(e)为「日」字形图样的曝光型态。 图7(f)为在进行图7(e)所示图样的周边曝光时控制 部所进行的曝光控制步骤。 图8示范发光单元之次要扫描机构的其他范例。 |
