| 主权项 |
1.一种在固体沸石触媒之存在下利用一或多种每 分子含9至16个碳原子之烯烃使苯烷化而制造一或 多种选自2-、3-、4-、5-及6-苯基烷之方法,其特征 为触媒包括基质及具结构EUO型沸石之触媒,该沸石 包括矽及一或多种选自由铝、铁、镓及硼组成之 元素T,且总Si/T原子比大于5,且其特征为该烷化系 在压力0.1至10MPa之间、温度30℃至400℃之间,且时 空速度0.50至200h-1,苯/烯烃莫尔比在1:1至50:1之范围 下进行。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中同 时制造2-、3-、4-、5-及6-苯基烷。3.根据申请专利 范围第1或2项之方法,其中之烯烃为直链。4.根据 申请专利范围第1或2项之方法,其中之烯烃为分枝 。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中触媒含具 结构EUO型沸石且触媒尺寸小于5微米(m)。6.根据 申请专利范围第5项之方法,其中触媒系依凝聚物 排列,使其Dv,90値为500m或更低。7.根据申请专利 范围第1项之方法,其中之基质系选自由黏土氧化 铝、氧化矽、氧化镁、氧化锆、氧化钛、氧化硼 、及其组合物所成组群者。8.根据申请专利范围 第1项之方法,其中触媒形成珠粒状或挤出物状。9. 根据申请专利范围第1项之方法,其中触媒之机械 强度系使得其床粉碎强度超过0.5MPa。10.根据申请 专利范围第1项之方法,其中具结构EUO型沸石为EU-1 。11.根据申请专利范围第1项之方法,其中触媒中 之元素T系选自由铝及硼所形成者。12.根据申请专 利范围第1项之方法,其中触媒之基质为氧化铝。13 .根据申请专利范围第1项之方法,其中触媒之沸石 为至少部分为酸形式,且其Na/T原子比小于0.5。14. 根据申请专利范围第1项之方法,其中相对于总触 媒重量,触媒含1%至95%(重量)之一或多种具结构EUO 型沸石。15.根据申请专利范围第1项之方法,其中 由烷化区制造之产物分馏成包括未转化之苯之第 一馏分,包括一或多种未转化烯烃之第二馏分,包 括苯基烷之第三馏分,及包括一或多种聚烷基苯之 第四馏分,且一或多部分之该第四馏分再循环回到 该烷化区中。16.根据申请专利范围第1项之方法, 其中由烷化区制造之产物分馏成包括未转化之苯 之第一馏分,包括一或多种未转化烯烃之第二馏分 ,包括苯基烷之第三馏分,及包括一或多种聚烷基 苯之第四馏分,且一或多部分之该第四馏分在与含 具结构EUO型沸石之使苯烷化之区不同之第二反应 区中处理,该第二反应区含转烷化触媒,且维持在 藉由聚烷基苯及苯间反应形成单烷基苯之条件下 。17.根据申请专利范围第16项之方法,其中转烷化 区系在温度100℃至500℃间,压力在1.5至10间MPa下操 作,且液态烃流速(空间速度)为每体积触媒每小时0 .5至5体积,苯∕聚烷基苯莫尔比在2:1至50:1。18.根 据申请专利范围第15或16项之方法,其中一或多部 份之第一馏分再循环至烷化区中。19.根据申请专 利范围第15或16项之方法,其中一或多部份之第二 馏分再循环至烷化区中。 |
