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发明名称 METHOD FOR SELECTIVE DEPOSITION OF REFRACTORY METALS ON SILICON SUBSTRATES AND DEVICE FORMED THEREBY
摘要
申请公布号 US5084417(A) 申请公布日期 1992.01.28
申请号 US19890322486 申请日期 1989.03.13
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 JOSHI, RAJIV V.;OH, CHOON-SIK;MOY, DAN
分类号 H01L21/3205;C23C16/08;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;H01L23/52 主分类号 H01L21/3205
代理机构 代理人
主权项
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