PROCESS FOR COATING A PHOTORESIST COMPOSITION ONTO A SUBSTRATE.

摘要

Un procédé d'application d'un film d'épaisseur uniforme de solides de réserve sur un substrat se caractérise par les étapes consistant: (a) à former une composition de réserve liquide comprenant des solides de réserve dans un solvant; la teneur en solides de ladite composition de réserve étant située dans la plage comprise entre environ 10 % en poids et environ 22 % en poids; (b) à former des gouttelettes de pulvérisation atomisées de ladite composition de réserve liquide; (c) à laisser lesdites gouttelettes de pulvérisation atomisées se déposer par gravité sur une surface de substrat, formant ainsi une couche de réserve sur ladite surface; et (d) à faire tourner ledit substrat enduit à une vitesse de rotation prédéterminée pendant une période de temps prédéterminée afin d'éliminer tout ledit solvant de ladite couche de réserve, et afin de former un film d'épaisseur uniforme de solides de réserve sur ledit substrat.