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Aus einen olefinisch ungesättigten Substituenten aufweisenden Benzoesäureestern der Formel I <IMAGE> worin R1 und R2 unabhängig voneinander je ein Wasserstoffatom, C1-C4-Alkyl oder Phenyl, R3 ein Wasserstoffatom, Methyl oder ein Halogenatom, R4 ein Wasserstoffatom oder Methyl und R5 ein C1-C4-Alkyl oder C6-C12-Aryl und R6 und R7 unabhängig voneinander je ein Wassterstoffatom, ein C1-C4-Alkyl oder ein C6-C12-Aryl bedeuten, wobei R5 und R7 zusammen auch einen unsubstituierten oder einen C1-C4-alkyl-, C1-C4-alkoxy-, C6-C12-aryl- oder C6-C12-aryloxysubstituierten Ethylen-, Propylen- oder Butylenrest bedeuten können, lassen sich gegebenenfalls in Gegenwart von anderen olefinisch ungesättigten Monomeren Polymere herstellen, die für positiv arbeitende Photoresists verwendet werden können.
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