发明名称 处理装置及表面处理治具
摘要 本发明的处理装置(100)是包含:载置台(10),其系载置被处理体(18);表面处理治具(20),其系以处理液来处理被处理体(18)的被处理面(18a);供给手段(30),其系对表面处理治具(20)供给处理液;回收手段(40),其系回收供给至表面处理治具的处理液;及离间维持手段(50),其系将表面处理治具(20)维持成与被处理面(18a)离间的状态。又,表面处理治具(20),系具备:具有对向于被处理面(18a)的对向面(22a),在该对向面(22a)与该被处理面(18a)之间保持从供给手段(30)所供给的处理液,而来处理被处理面(18a)之处理部。藉此,提供一种可一面抑止对被处理面以外的面之处理液的飞散,一面对被处理面实施利用处理液的处理之处理装置及表面处理治具。
申请公布号 TW200830398 申请公布日期 2008.07.16
申请号 TW096142480 申请日期 2007.11.09
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 宫成淳
分类号 H01L21/304(2006.01);H01L21/67(2006.01) 主分类号 H01L21/304(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本