发明名称 Process for the production of high purity aluminium-based cathodes for cathodic sputtering.
摘要 <p>L'invention concerne un procédé de fabrication de cibles, destinées au dépôt d'alliage d'aluminium sous vide par pulvérisation cathodique. Le procédé consiste en un traitement thermique des disques d'alliages d'aluminium permettant d'obtenir un grain fin. Il est caractérisé par un traitement de mise en solution du silicium, suivi d'un refroidissement contrôlé provoquant la précipitation fin de du silicium, d'un traitement de globulisation éventuel du silicium. Après refroidissement, les disques sont déformés à la presse et subissent un traitement final de recristallisation. Le procédé s'applique à la fabrication de cibles ou cathodes pour le revêtement de plaquettes de silicium smi-conducteur par pulvérisation cathodique. &lt;IMAGE&gt;</p>
申请公布号 EP0466617(A1) 申请公布日期 1992.01.15
申请号 EP19910420231 申请日期 1991.07.08
申请人 ALUMINIUM PECHINEY 发明人 LEGRESY, JEAN-MARC;MARTICOU, MARC-HENRI
分类号 C22F1/043;C23C14/34 主分类号 C22F1/043
代理机构 代理人
主权项
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