| 主权项 |
1.一种涂底膜,其所包含聚合物膜底层而在其至少 一种表 面上系具有附着层,其所包含共聚物系含有下列单 体类: (a)35至40莫耳%丙烯酸烷酯,(b)5至40莫耳%异丁烯酸烷 酯,(c)0至15莫耳%含游离羧基团之单体,及(d)5至20莫 耳%之芳香烃磺酸及/或其盐。2.根据申请专利范围 第1项之涂底膜<其中共单体(a)系丙 烯酸乙酯,(b)系异丁烯酸甲酯,(c)系甲叉丁二酸及/ 或 丙烯酸,且(d)对一苯乙烯磺酸及/或其盐。3.根据申 请专利范围第1项或第2项之涂底膜,其中附着层 系至少部份交联。4.根据申请专利范围第3项之涂 底膜,淇中以重量计附着 层包括至少10%交联剂。5.根据申请专利范围第1或2 项之涂底膜,其中附着层所包 含粒状填料具有粒子大小系小于5微米且以共聚物 之重量 计其存在用量系至高达200%。6.一种磁卡片,此包括 将磁化层直接或间接施用至申请专 利范围第1项或2项中所述涂戚膜之第一附着层上 面,且将 石墨层直接或间接施用至该涂层膜之第二附着层 之上。o7.一种感光底片,此包括感光乳剂而此系直 接施用至在申 请专利范围第1或2项所述涂底膜之聚合物膜底贫 之远端表 面上。8.一种金属膜,此包括金属层而系直接或间 接施用至如申 请专利范围第1或2项所述涂底膜附着层上。9.一种 制图膜,此包括将从水性及/或有机溶剂清喷漆层 而以直接或间接地施用至如申请专利觐围第1或2 项之涂底 膜之附着层上。10.一种涂底膜制法,此合系藉形成 聚合物之底层,且以 附着层施用至至少其一种表面上,此层所包括共聚 物系含 有下列之共单韹类:(a)5至40莫耳苑丙烯酸烷酯,(b)5 至40莫耳%异丁烯酸烷酯,(c)10至15莫耳%含游离羧基 团 |
