化学气相沉积镀膜连续镀制装置

摘要

化学气相沉积镀膜连续镀制装置，包含一用以输送一待镀物沿一预定路径移动的输送单元、一位于该预定路径上以在该待镀物上沉积一镀附物的沉积单元，及一连通该沉积单元的冷凝单元。该冷凝单元包括一连通该沉积单元的入口冷凝机构，及一连通该沉积单元的出口冷凝机构，该入口冷凝机构与该出口冷凝机构能受控制地将温度控制在一可防止该镀附物逸散的冷凝温度。利用该输送单元连续地输送该待镀物依序通过该入口冷凝机构、该沉积单元与该出口冷凝机构，不仅可以连续进行镀制作业，以提升产能，同时也能避免该镀附物的外泄或逸散。

主权项

一种化学气相沉积镀膜连续镀制装置，包含：一输送单元，用以输送一待镀物沿一预定路径移动；一沉积单元，包括一位于该预定路径上以在该待镀物上沉积一镀附物的沉积舱；及一冷凝单元，包括一连通该沉积舱的入口冷凝机构，及一连通该沉积舱的出口冷凝机构，该入口冷凝机构与该出口冷凝机构分别位于该沉积舱的两相反侧，且能受控制地将温度控制在一可防止该镀附物逸散的冷凝温度；该输送单元是带动该待镀物依序经该入口冷凝机构、该沉积舱与该出口冷凝机构以在该待镀物上沉积该镀附物。