Thick deposited cobalt platinum magnetic film and method of fabrication thereof.

摘要

Un film magnétique à base de cobalt et de platine (CoPt) d'une épaisseur de 3 000-10 000 Angstroms est déposé sur une couche de recouvrement de chrome (Cr) ou de tungstène (W) sur un substrat (16), ou est déposé directement sur le substrat (16). Le film déposé possède une composante appréciable de son axe C, qui est parallèle à la direction [00.2] se trouvant dans le plan du film. La composante de l'axe C se trouve dans le plan du film sur toute l'épaisseur du film CoPt, et le film magnétique obtenu possède une coercivité de 1300 à 2000 Oersteds, en fonction de la couche de recouvrement incorporée, lorsqu'il y en a une. Le procédé de production du film magnétique de l'invention consiste à appliquer par pulvérisation la couche de recouvrement sur un substrat (16) maintenu approximativement à température ambiante dans une atmosphère de gaz inerte. Après avoir réglé la pression du gaz et la distance (40) entre la cible de pulvérisation au cobalt-platine (34) et le substrat (16), le cobalt-platine est pulvérisé de sorte que les atomes de cobalt et de platine qui se déposent sont thermalisés tout en traversant la distance entre la cible (34) et le substrat (16). Le film ainsi déposé est magnétiquement isotrope dans le plan et peut avoir la configuration d'un aimant permanent ayant une magnétisation résultante dans le plan en l'exposant à un champ de magnétisation externe orienté le long du plan du film.