发明名称 | 薄膜形成装置 | ||
摘要 | 本发明公开了一种薄膜形成装置,包括真空室,真空室中有基板和相对设置的、喷出蒸镀物质蒸气产生蒸镀物质结团粒子的蒸气发生源,使所述结团粒子部分电离的电离的装置以及提供电离的结团粒子动能向所述基板碰撞的加速装置;还具有将较小尺度电离的结团粒子去除的过滤装置。其加速装置还可以由正偏置的加速电极和相对于该加速电极成负偏置的引出电极以及接地电极构成。 | ||
申请公布号 | CN1057492A | 申请公布日期 | 1992.01.01 |
申请号 | CN91104119.2 | 申请日期 | 1991.06.15 |
申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 伊藤弘基 |
分类号 | C23C14/32 | 主分类号 | C23C14/32 |
代理机构 | 上海专利事务所 | 代理人 | 颜承根 |
主权项 | 1、一种薄膜形成装置具有: 保持一定真空度的真空室; 设置在该真空室内的基板; 蒸气发生源,该蒸气发生源由与该基板相对设置、并向该基板喷出蒸镀物质蒸气而使之产生蒸镀物质结团粒子的坩埚,加热该坩埚的加热用线圈,隔绝由加热用线圈发出热量的绝热板构成; 使部分所述结团粒子电离的电离装置;和 赋予由该电离装置电离的结团粒子与未被电离的蒸镀物质结团粒子或蒸气以动能使其向所述基板碰撞的加速装置, 其特征在于还具有, 除去由所述电离装置电离的结团粒子中较小尺度的结团粒子的过滤装置。 | ||
地址 | 日本东京都 |