发明名称 一种低磨损率的VN耐磨涂层及其制备方法
摘要 本发明提供一种具有低磨损率的VN耐磨涂层及其制备方法,所述的VN耐磨涂层具有高度(200)择优取向和V‑型柱状晶生长结构,涂层致密度高,密度在5.0~6.0g/cm<sup>3</sup>,该种结构的VN耐磨涂层具有高硬度(&gt;25GPa),低磨损率(&lt;10<sup>‑</sup><sup>16</sup>m<sup>3</sup>/N·m数量级)、低摩擦系数(&lt;0.5)等特点,适合于中温(&lt;500℃)、高压、高速、重载工况中用来增加工件表面的耐磨性。本发明还公开了该VN耐磨涂层的制备方法。
申请公布号 CN103726014B 申请公布日期 2016.07.20
申请号 CN201410005990.8 申请日期 2014.01.03
申请人 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 发明人 黄峰;李朋;葛芳芳
分类号 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/06(2006.01)I
代理机构 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人 崔佳佳;马莉华
主权项 一种VN耐磨涂层,其特征在于,所述的VN耐磨涂层具有以下特征:所述的VN耐磨涂层呈V‑型柱状晶生长结构且垂直于基底生长;所述的VN耐磨涂层密度在5.0~6.0g/cm<sup>3</sup>之间;所述的VN耐磨涂层具有高度((200)晶面)择优取向;所述的VN耐磨涂层相邻两VN柱状晶[002]晶向之间的倾角失配度为8~15°;且所述的涂层在2θ=36°~45°衍射角范围内具有VN(200)衍射峰和VN(111)衍射峰,且所述的VN(200)衍射峰强度I(200)与VN(111)衍射峰强度I(111)存在以下关系:<maths num="0001" id="cmaths0001"><math><![CDATA[<mrow><mfrac><mrow><mi>I</mi><mrow><mo>(</mo><mn>200</mn><mo>)</mo></mrow></mrow><mrow><mi>I</mi><mrow><mo>(</mo><mn>200</mn><mo>)</mo></mrow><mo>+</mo><mi>I</mi><mrow><mo>(</mo><mn>111</mn><mo>)</mo></mrow></mrow></mfrac><mo>=</mo><mi>K</mi></mrow>]]></math><img file="FDA0000975134890000011.GIF" wi="358" he="111" /></maths>其中K为比例常数,且0.5≤K≤1。
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