| 摘要 |
기판을 처리하는 기판 처리 시스템은 기판을 처리하는 복수의 처리 장치가 마련된 처리 스테이션과, 기판 처리 시스템의 외부에 마련되어 기판 상의 레지스트막에 패턴의 노광을 행하는 노광 장치와 기판 처리 시스템과의 사이에서 직접적 또는 간접적으로 기판을 전달하는 인터페이스 스테이션과, 패턴의 노광이 행해진 후의 기판 상의 레지스트막에 대하여 UV광에 의한 포스트 노광을 행하는 광 조사 장치와, 광 조사 장치를 수용하고, 감압 또는 불활성 가스 분위기로 조정 가능한 포스트 노광 스테이션을 가지고, 포스트 노광 스테이션은 노광 장치와 직접적, 또는 감압 또는 불활성 가스 분위기로 조정 가능한 공간을 개재하여 간접적으로 접속되어 있다. |
