发明名称 |
SINGLE WAFER PROCESSING ATMOSPHERIC CVD DEVICE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH03287771(A) |
申请公布日期 |
1991.12.18 |
申请号 |
JP19900090597 |
申请日期 |
1990.04.05 |
申请人 |
HITACHI ELECTRON ENG CO LTD |
发明人 |
KOMATSU NOBUHISA;SAITO TOSHIO |
分类号 |
C30B25/14;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/205;H01L21/31 |
主分类号 |
C30B25/14 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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