| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft Verfahren, bei denen durch ein chemisch inertes und nicht festes Medium Druck auf eine Halbleiteroberfläche (0) ausgeübt wird,wobei zum Beispiel mit Hilfe einer Abdichtung (6a) verhindert wird, daß sich ein Gegendruck in einer Zwischenschicht (2) aufbaut. Eine Verbindung zwischen dem Halbleiter (3) und dem Substrat (1) erfolgt durch Drucksintern oder durch Diffusionsschweißen. Eine Berührung zwischen einem aktivem, inneren Bereich des Halbleiters und einem Preßkolben kann dadurch vermieden werden, daß der Preßkolben einen erhabenen und ringförmigen äußeren Bereich zur Abdichtung besitzt und der eigentliche Preßdruck durch das Druckmedium über eine im Preßkolben befindliche Bohrung bewirkt wird. Dieser erhabene Rand zur Abdichtung kann sich, anstatt auf dem Preßkolben, auch auf dem Halbleiter befinden. Wird ein Halbleiterbauelement mit einer Kunststoffschmelze umspritzt, so kann diese Kunststoffschmelze selbst als Druckmedium dienen. <IMAGE></p> |
