| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE DIAZONIUM SALT AND PHOTOSENSITIVE DIAZO COMPOSITION AND DIAZO RESIN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03274044(A) |
申请公布日期 |
1991.12.05 |
| 申请号 |
JP19900074774 |
申请日期 |
1990.03.23 |
| 申请人 |
RESUPE KEMIKARU KK |
发明人 |
FUKAZAWA DENSHICHIRO;WATANABE KENICHI;YAMASHITA IZUMI;MORIMOTO MASAKI |
| 分类号 |
G03F7/016;C07C245/20;G03C1/52;G03C1/54;G03C1/61;G03F7/021 |
主分类号 |
G03F7/016 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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