发明名称 CLEANING PROCESS FOR SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 JPH03255629(A) 申请公布日期 1991.11.14
申请号 JP19900054112 申请日期 1990.03.05
申请人 NEC CORP 发明人 ITO HIDEO
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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